日本現貨EBARA荏原EV-M20N半導體干式泵

干式真空泵通過機械運動直接壓縮和排出氣體，無需液體介質，避免油污染問題。其核心結構類型包括：

螺桿式雙螺桿結構：一對等速反向旋轉的螺桿轉子，通過阿基米德螺旋線與擺線輪廓設計形成密閉腔體，實現氣體的連續吸入與排出?13。

間隙控制：螺桿與泵腔保持微米級間隙，減少摩擦損耗，支持高轉速運轉（可達6000 rpm），提升抽氣效率。

?多級羅茨式??多級串聯設計?：采用多級羅茨葉片轉子，通過逐級壓縮提高極限真空度（可達10?2 Pa），適用于含粉塵或腐蝕性氣體的環境?56。

?無接觸嚙合?：轉子間無物理接觸，通過同步齒輪驅動，降低磨損并延長使用壽命。

渦旋式動靜渦旋盤嚙合：通過漸開線型渦旋盤形成連續壓縮腔，實現無油、低振動運行，極限真空度達10?1 Pa，適用于實驗室和小型設備。

二、性能優勢與創新技術

?無污染與耐腐蝕性?采用全密封結構（如陶瓷涂層、不銹鋼材質），防止潤滑油進入泵腔，確保半導體制造、食品加工等場景的潔凈度?34。

特殊防腐處理（如鍍鎳或PTFE涂層）的泵體，耐受酸性氣體（如Cl?、H?S）和有機溶劑。

智能控制與能效優化?集成變頻調速系統，根據負載動態調節電機功率，能耗降低20%以上。

傳感器實時監測溫度、振動等參數，結合物聯網技術實現遠程故障預警和維護提示。

模塊化與擴展性支持多級串聯或并聯，抽速范圍覆蓋10–1000 m3/h，可適配不同真空需求（如半導體前級泵需搭配分子泵使用）。

快速拆卸設計，更換核心部件（如轉子、密封件）耗時縮短至2小時內，減少停機損失。

三、典型應用場景

半導體制造刻蝕與沉積工藝：在等離子體刻蝕（如反應離子刻蝕）中抽除腐蝕性氣體?

• ?結構?：活塞在氣缸內往復運動，配以閥門控制氣流。

• ?工作流程?：活塞后移時吸氣，前移時壓縮氣體并排出。

• ?特點?：可達到較高真空度，但振動較大。

• ?半導體工業?：在半導體制造中，渦輪分子泵是制造微電子芯片和半導體器件的關鍵設備。由于半導體工藝需要在高真空環境下進行，渦輪分子泵通過高效抽氣，確保工藝過程中的高真空度，從而保障半導體產品的質量和生產效率?。

• ?光學工業?：在光學工業中，渦輪分子泵用于真空鍍膜、真空燒結、真空蒸發等工藝。其高真空度、低噪音、低震動的特點，使得光學鍍膜等工藝得以高質量完成?。

• ?醫藥工業?：在醫藥工業中，渦輪分子泵主要應用于真空干燥、真空蒸餾、真空濃縮等工藝。通過維持高真空度，有效避免藥品的氧化和變質，確保藥品的質量和安全性?。

• ?食品工業?：在食品工業中，渦輪分子泵用于真空包裝、真空蒸煮等工藝。它能夠快速抽取食品包裝內的氧氣，延長食品的保質期，同時保持食品的原有口感?。

• ?化工工業?：在化工工業中，渦輪分子泵廣泛應用于真空蒸餾、真空干燥、真空濃縮等關鍵工藝。高真空度的維持對于避免化工產品的氧化和變質至關重要，渦輪分子泵的高效性能為化工生產提供了有力保障?。

• ?高能物理研究?：在高能物理研究中，渦輪分子泵用于加速器質譜系統等設備中，創造高真空環境，以確保粒子加速和檢測的準確性?。

• ?其他領域?：渦輪分子泵還廣泛應用于鍍膜、電子、太陽能、真空爐、離子刻蝕、光盤制造、制燈、航空航天、核能源等相關行業和教學、科研單位。

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